优势：

将光镜和聚焦成像获得更多的信息

蔡司显微镜900，您的高端焦平台，是由于苛刻的材料应用在2D和3D。 所有你需要的是一个显微镜来执行多模式的分析。 你可以描述地形结构的样品，并评估表面粗糙度与非接触的共焦成像。 确定的厚度涂层和电影的非破坏性。 解决显微镜任务的市场领先的范围内对比技术，包括偏光和荧光在这两种反射，并发射光线。 征金相样本中的反射光以及薄片的岩石或聚合物在发送lig

有效地调查您的样品

无需更换显微镜即可对新材料和结构进行分析和成像，这将减少设置时间，并加快获得结果的时间。在样品的多个位置进行自动数据采集，优化您的工艺。完全控制您的数据及其后处理。

高达6，144 × 6，144像素的扫描场为您提供了在扫描区域的大小和方向上完全灵活的优势。您将只获取感兴趣的区域。

扩展您的成像范围

共焦装置可扩展您的宽视野调查能力。当您使用LSM 900升级Axio Imager.Z2m正置显微镜或Axio Observer 7倒置显微镜时，您将获得硬件（例如物镜、载物台和照明）以及软件和接口多功能性的额外优势。使用可选的ZEISS ZEN Intellesis软件，一种基于机器学习的图像分割解决方案，识别复杂样品的不同阶段。添加ZEISS ZEN Connect和ZEISS ZEN Data Storage，执行智能数据管理，享受中央数据库解决方案的优势。通过这种方式，您可以将所有数据纳入不同成像模式、仪器或多用户实验的背景中。

共聚焦原理-以3D方式对整个样品进行成像

LSM 900是一种显微镜系统，它在共焦光束路径中使用激光捕获样品的定义光学切片，并将它们联合收割机组合成三维图像堆栈。共焦显微镜的主要特征是其光圈（通常称为针孔），其排列方式可以阻止焦点外的信息，只有焦点内的信息才能被检测到。通过在x、y方向上扫描来生成图像。聚焦信息看起来明亮，而失焦信息是暗的。

通过改变样品和物镜透镜之间的距离，对样品进行非破坏性光学切片，并生成图像堆栈。通过图像堆栈分析单个像素的强度分布，可以计算出物体的相应高度。然后可以将整个视场上的高度信息组合以形成高度图。

依靠C Epiplan-APOCHROMAT物镜

使用高功率、复消色差和平场校正的C Epiplan-APOCHROMAT物镜系列，满足反射光应用的严格要求。这将为您带来成像的好处，在可见光谱范围内具有增强的对比度和高透射率。在传统的宽视场显微镜、微分干涉对比（DIC）和荧光中获得最佳结果。C Epiplan-APOCHROMAT物镜是专为共焦显微镜设计的，在405 nm的全视场范围内实现最小像差。优化的物镜可生成精确的地形数据，干扰噪声和伪影更少，从而显示更多表面细节。

体验所有对比技术的能力，如：

最大均匀性和无杂散光背景

在明视野下，Axio Imager 2提供均匀的照明和出色的对比度。通过最大限度地减少干扰杂散光和降低照明光学系统的纵向色差，暗场照明对比度适用于最具挑战性的样品，即使面对最精细的结构也能留下深刻印象。电动支架可让您特别快速方便地工作。

C-DIC：适用于所有结构

圆微分干涉对比（C-DIC）是一种偏振光学技术，与普通的微分干涉对比（DIC）相反，它使用圆偏振光。这种技术对于不同排列的物体结构的对比具有许多决定性的优点。不再需要像基本DIC那样旋转speci-men以获得最佳图像对比度和质量。

使用C-DIC，只需调整C-DIC棱镜的位置即可实现最佳图像质量，无论是对比度和/或分辨率，都与样品方向无关。而这一切都是可能的，使用一个C-DIC棱镜的同质无与伦比的质量图像。

使用ConfoMap在3D中检查曲面

ConfoMap是在3D中可视化和检查测量表面的理想选择。它可让您根据最新的计量标准（如ISO 25178）评估表面的质量和功能性能。您可以包括全面的几何、功能和粗糙度研究，并创建详细的表面分析报告。添加高级表面纹理分析、轮廓分析、晶粒和颗粒分析、3D傅立叶分析、表面演变分析和统计的可选模块。

通过自动数据采集更高效地工作

表面结构取决于加工工艺等。要找到最佳工艺参数，您通常需要创建样品曲面并评估曲面结构。使用LSM 900，您现在可以记录样品上多个点的测量数据，从而获得有关表面结构分布的统计信息。

或者在扫描台上测量大量样品。而且您可以在一个过程中完成所有操作--由于记录条件的高度可重复性，您的结果具有一定的可比性。利用自动化节省的时间来计划新的实验。