蔡司 Xradia 510 Versa
——灵活、创新、非破坏性
用途广泛的 X 射线显微镜（XRM）
使用非破坏性的X射线成像保护并延长了有价值的样品的
使用时间。Xradia 510 Versa 充分发挥了X射线显微镜
（XRM）的性能，能够为各种不同的样品和研究环境提
供灵活的 3D 成像解决方案。
Xradia 510 Versa 拥有高达 0.7 μm的真实空间分辨率，
体素大小低至70 nm ，将接近同步辐射技术水平的成像
性能扩展到了世界各地的重要实验室。结合先进的吸收衬
度技术和适用于软材料或低原子序数材料的创新相位衬度
技术，Xradia 510 Versa的通用性得到提升，以至能够突
破传统计算机断层扫描方法的局限性。
超越微米 CT 的性能
蔡司 Xradia 510 Versa 系列解决方案使科学研究突破了
基于投影的微米 CT 和纳米 CT 系统的限制。传统断层
扫描依赖于单级几何放大，而 Xradia 510 Versa 依靠同
步辐射技术水平的光学器件，采用了蔡司独特的两级
放大技术。
多尺度范围成像功能可以对同一样品进行大范围的多
倍率成像。在繁忙的实验室工作中，所有科研人员都
可以方便操作 Xradia 510 Versa。
卓越的 4D / 原位解决方案
非破坏性的X射线显微镜对原位状态下的材料微结构以及
特征随时间的演化（4D）进行独特的表征。
依托蔡司的 RaaD 功能，Xradia 510 Versa 对原位状态
高精度原位台中的各种尺寸的样品都保持亚微米级分辨
率。Xradia 510 Versa 原位分析套件通过优化设置和操
作， 实现了高易用性，同时缩短了获得结果的时间。
为亚微米级 3D 成像带来空前灵活性
蔡司 Xradia 510 Versa 凭借其突破性技术和高分辨率探
测器，将 3D X射线显微镜( XRM )的性能提升至新的高
度，为各种尺寸的样品提供亚微米级成像解决方案。通过
其世界领先的分辨率、衬度和灵活的工作距离以及行业领
先的原位/4D 解决方案的强大组合，有力拓展了非破坏性
的实验室成像能力。
技术参数
| 成像 |
| 空间分辨率 0.7 μm |
| 50 mm 工作距离下的分辨率（ RaaD）* 1.0 µm |
| 最小可实现的体素** （最大放大倍率下样品的体素大小） 70 nm |
| * RaaD 工作距离按照旋转轴周围的间隙定义 |
| ** 体素（也被称作“ 标称分辨率” 或“ 细节可探测性” 是一个几何术语， 与分辨率相关， 但不用于确定分辨率， 在这里提出仅用于比较。 |
| 蔡司使用空间分辨率指标，它是衡量分辨率最高意义的方法。 |
| X 射线源 |
| 类型 |
|
密封透射 |
|
| 管电压范围 30 - 160 kV |
| 最大输出 10 W |
辐射安全度（外壳表面以上25mm 外测量） < 1µS/hr
探测系统 |
| 蔡司X 射线显微镜拥有创新探测器转台， 装有多个不同放大倍率的物镜。每个物镜配备优化的闪烁体，可提供最高吸收衬度细节。 |
| 标准物镜 0.4X, 4X, 20X |
可选物镜 40X
样品台 |
| 样品台（负荷能力） 15 kg |
| 样品台（x, y, z） 45, 100, 50 mm |
| 样品包（旋转） 360º |
| 光源行程（z） 190 mm |
| 探测器行程(z） 290 mm |
样品尺寸限制
功能比较 |
300 mm
Xradia 520 Versa |
Xradia 510 Versa |
Xradia 410 Versa |
| “ 搜索和扫描” 控制系 • • • |
| 统自动 X 射线过滤转换器 • |
| 高宽厚比扫描（HART） • |
| 双扫描衬度可视化系统（DSCoVer） • |
| 自动进样系统 |
可选 |
可选 |
可选 |
| 宽视场模式（WFM） |
0.4X 和4X |
0.4X |
0.4X |
| GPU 基于CUDA 重建 |
双 |
单 |
单 |
| 原位接口套件 |
可选 |
可选 |
可选 |
